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题名/责任者:

半导体先进光刻理论与技术:a modeling perspective/(德) 安德里亚斯·爱德曼著 李思坤译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-122-43276-6 精装/CNY198.00

载体形态项:

304页:图 (部分彩图);25cm

并列正题名:

Optical and EUV lithography

个人责任者:

爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著

个人次要责任者:

李思坤 译

学科主题:

半导体光电器件-光刻设备-研究

中图法分类号:

TN305.7

责任者附注:

安德里亚斯·爱德曼, 国际光学工程学会 (SPIE) 会士, 德国弗劳恩霍夫协会计算光刻和光学组学术带头人, 多次担任SPIE光学光刻与光学设计国际会议主席, 弗劳恩霍夫协会国际光刻仿真技术研讨会组织者。李思坤, 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员, 博士生导师。长期从事半导体光学光刻与极紫外光刻技术研究。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等, 包括光刻技术的前沿进展, 还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。

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