机读格式显示(MARC)

• 000 01476nam0 2200289 450

• 001 0000464568

• 005 20240511095400.0

• 010 __ |a 978-7-122-43276-6 |b 精装 |d CNY198.00

• 100 __ |a 20230906d2023 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c ger

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 半导体先进光刻理论与技术 |A ban dao ti xian jin guang ke li lun yu ji shu |f (德) 安德里亚斯·爱德曼著 |d = Optical and EUV lithography |e a modeling perspective |g 李思坤译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2023

• 215 __ |a 304页 |c 图 (部分彩图) |d 25cm

• 314 __ |a 安德里亚斯·爱德曼, 国际光学工程学会 (SPIE) 会士, 德国弗劳恩霍夫协会计算光刻和光学组学术带头人, 多次担任SPIE光学光刻与光学设计国际会议主席, 弗劳恩霍夫协会国际光刻仿真技术研讨会组织者。李思坤, 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员, 博士生导师。长期从事半导体光学光刻与极紫外光刻技术研究。

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等, 包括光刻技术的前沿进展, 还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。

• 510 1_ |a Optical and EUV lithography |z eng

• 606 0_ |a 半导体光电器件 |A ban dao ti guang dian qi jian |x 光刻设备 |x 研究

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _1 |a 爱德曼 |A ai de man |g (Erdmann, Andreas) |4 著

• 702 _0 |a 李思坤 |A li si kun |4 译

• 801 _0 |a CN |b 湖北三新 |c 20240105

• 905 __ |a LJUZC |d TN305.7/5

• 920 __ |a 222016 |z 1