检索到 10 条 分类号=TN305.7 的结果
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中文图书1.半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲 TN305.7/9
馆藏复本：3
可借复本：3 (日) 冈崎信次主编
机械工业出版社 2025
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中文图书2.集成电路与等离子体装备 TN4/48
馆藏复本：3
可借复本：3 赵晋荣等编
科学出版社 2024
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中文图书3.光刻技术:here is why TN305.7/8
馆藏复本：3
可借复本：3 林本坚著
化学工业出版社 2024
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中文图书4.半导体干法刻蚀技术 TN305.7/7
馆藏复本：3
可借复本：3 (日) 野尻一男著
机械工业出版社 2024
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中文图书5.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN305.7/6
馆藏复本：3
可借复本：3 (美) 索斯藤·莱尔著
机械工业出版社 2023
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中文图书6.半导体先进光刻理论与技术:a modeling perspective TN305.7/5
馆藏复本：3
可借复本：3 (德) 安德里亚斯·爱德曼著
化学工业出版社 2023
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中文图书7.等离子体刻蚀工艺及设备 TN305.7/3
馆藏复本：3
可借复本：3 主编赵晋荣
电子工业出版社 2023
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中文图书8.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/2
馆藏复本：3
可借复本：3 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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中文图书9.光学光刻和极紫外光刻:a modeling perspective TN305.7/4
馆藏复本：3
可借复本：3 (德) 安迪·爱德曼著
上海科学技术出版社 2023
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中文图书10.电子束曝光微纳加工技术 TN305.7/1
馆藏复本：3
可借复本：3 顾文琪主编
北京工业大学出版社 2004
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