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题名/责任者:

光刻技术:here is why/林本坚著/Burn J. Lin 严天宏译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2024

ISBN及定价:

978-7-122-45151-4 精装/CNY198.00

载体形态项:

369页:图 (部分彩图);27cm

统一题名:

Optical lithography : here is why

个人责任者:

林本坚 (Lin, Burn J.) 著

个人次要责任者:

严天宏 译

学科主题:

光刻系统

中图法分类号:

TN305.7

版本附注:

译自原书第2版

出版发行附注:

本书中文版由SPIE授权化学工业出版社出版发行

责任者附注:

林本坚 (Burn J. Lin), 博士, 是台湾清华大学 (清大) 特聘研究讲座教授和台积电 (TSMC)-清大联合研发中心主任。2000年加入台积电担任资深处长, 2011年至2015年担任副总经理和杰出科技院士。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识, 学习曝光系统和图像形成的基础理论, 并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识; 读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况, 加强对半导体制造技术的认知; 还添加了接近印刷方面的全新材料, 以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料, 以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。

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