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题名/责任者:

硅锗的性质/(德) Erich Kasper主编 余金中译

出版发行项:

北京:国防工业出版社,2002

ISBN及定价:

7-118-02883-5 精装/CNY24.00

载体形态项:

250页:图;20cm

并列正题名:

Properties of Strained and Relaxed Silicon Germanium

个人责任者:

卡斯珀 (Kasper, Erich) 主编

个人次要责任者:

余金中 (物理学) 译

学科主题:

硅-集成电路-半导体器件-性质

中图法分类号:

TN304.1

中图法分类号:

TN303

责任者附注:

责任者规范汉译姓：卡斯珀

书目附注:

有书目。

提要文摘附注:

本书由31位来自德国、美国、加拿大、英国、日本等国Si基异质结构和应用领域的教授们编写，是一本论述SiGe/Si知识的权威性专著。本书共七章，第一章综述了SiGe应变层系统的一些总体性质；第二章至第六章给出了应变的和弛豫的SiGe合金的具体材料性质，综合评述了SiGe材料的结晶学、异质结构、热学性质、力学和晶格振动、能带结构、输运特性、表面性质等内容；第七章介绍了一些代表性的SiGe/Si器件的结构和特性。

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