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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:60

题名/责任者:
基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究/章嵩著
出版发行项:
北京:科学出版社,2017
ISBN及定价:
978-7-03-055333-1/CNY38.00
载体形态项:
90页:图;24cm
丛编项:
博士后文库
个人责任者:
章嵩 著
学科主题:
脉冲激光器-激光淀积-碳化物陶瓷-薄膜技术-研究
中图法分类号:
TQ174.75
出版发行附注:
中国博士后科学基金资助出版
书目附注:
有书目 (第83-90页)
提要文摘附注:
本书旨在利用脉冲激光沉积技术, 将其分别采用碳化硼陶瓷靶与硼-碳拼合靶为靶材。通过对靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参数的调整, 得到表面平整、厚度均匀及成分可控的富硼B-C薄膜, 建立靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参考与薄膜组成、结构之间的关系, 对该系列薄膜的生长机理进行分析研究。
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