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- 题名/责任者:
- 基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究/章嵩著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2017
- ISBN及定价:
- 978-7-03-055333-1/CNY38.00
- 载体形态项:
- 90页:图;24cm
- 丛编项:
- 博士后文库
- 个人责任者:
- 章嵩 著
- 学科主题:
- 脉冲激光器-激光淀积-碳化物陶瓷-薄膜技术-研究
- 中图法分类号:
- TQ174.75
- 出版发行附注:
- 中国博士后科学基金资助出版
- 书目附注:
- 有书目 (第83-90页)
- 提要文摘附注:
- 本书旨在利用脉冲激光沉积技术, 将其分别采用碳化硼陶瓷靶与硼-碳拼合靶为靶材。通过对靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参数的调整, 得到表面平整、厚度均匀及成分可控的富硼B-C薄膜, 建立靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参考与薄膜组成、结构之间的关系, 对该系列薄膜的生长机理进行分析研究。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TQ174.75/8 | C001396656 | 理科阅览区
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可借 | 理科阅览区 | |
| TQ174.75/8 | C001396657 | 理科阅览区
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可借 | 理科阅览区 | |
| TQ174.75/8 | C001396658 | 理科阅览区
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可借 | 理科阅览区 |
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