MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：32
- 题名/责任者:
- 光刻机像质检测技术.上册/王向朝，戴凤钊等著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2021.03
- ISBN及定价:
- 978-7-03-067354-1 精装/248
- 载体形态项:
- 12,529页:图;26cm
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 提要文摘附注:
- 本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、执像差等像质检测技术。
- 使用对象附注:
- 本书适合从事光刻机研究与应用的科研与工程技术人员，高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生与本科生，现代光学精密检测、光学成像等领域的科技人员、研究生和高等院校的本科生
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