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中文图书1.半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲 TN305.7/9
馆藏复本:3
可借复本:3 (日) 冈崎信次主编
机械工业出版社 2025
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中文图书2.芯片制造:光刻巨头ASML传奇之路 F456.366/1
馆藏复本:3
可借复本:3 (荷) 马克·海金克著
长江文艺出版社 2025
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中文图书3.半导体先进光刻理论与技术:a modeling perspective TN305.7/5
馆藏复本:3
可借复本:3 (德) 安德里亚斯·爱德曼著
化学工业出版社 2023
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中文图书4.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/2
馆藏复本:3
可借复本:3 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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