MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：21
- 题名/责任者:
- Zemax光学设计实践基础/施跃春, 吴平辉, 陈家璧编著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-121-46624-3/CNY42.00
- 载体形态项:
- 194页:图;26cm
- 丛编项:
- 光电信息科学与工程类专业精品教材
- 个人责任者:
- 施跃春 编著
- 个人责任者:
- 吴平辉 编著
- 个人责任者:
- 陈家璧 编著
- 学科主题:
- 光学设计-研究
- 中图法分类号:
- TN202
- 书目附注:
- 有书目 (第193-194页)
- 提要文摘附注:
- 本书注重Zemax光学设计实践, 同时为了实践联系理论, 各章节先简单介绍相关理论或背景, 然后落实在具体Zemax设计方法上。本书首先给出Zemax光学设计入门操作、优化的基本概念、透镜基本原理与基本优化设计、平面系统设计、光束限制设计与多重结构设计、光能计算、像差计算; 然后给出像质评价、Zemax优化设计方法、面向光通信模块的4个设计案例和面向成像镜头的三片式成像系统及苹果手机镜头设计案例; 最后给出超构透镜与Zemax联合设计案例。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN202/7 | C001704110 | 2023 |  理科阅览区
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可借 | 理科阅览区 |
| TN202/7 | C001704111 | 2023 | 理科阅览区
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可借 | 理科阅览区 |
| TN202/7 | C001704112 | 2023 | 理科阅览区
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可借 | 理科阅览区 |
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