MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：61
- 题名/责任者:
- 画法几何与阴影透视:从绘图到设计/中央美术学院主编 钟予编著
- 出版发行项:
- 北京:中国建筑工业出版社,2008
- ISBN及定价:
- 978-7-112-10402-4/CNY26.00
- 载体形态项:
- 120页:图;29cm
- 个人责任者:
- 钟予 编著
- 团体次要责任者:
- 中央美术学院 主编
- 学科主题:
- 画法几何-高等学校-教材
- 学科主题:
- 建筑制图-透视投影-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- O185.2-43
- 中图法分类号:
- TU204-43
- 书目附注:
- 有书目 (第119页)
- 提要文摘附注:
- 本书结合建筑学科背景，在锻炼学生几何求解能力的同时，激发学生空间想象力、独立思考能力和创造力。避免枯燥的原理及习题讲解，增加课程中的思考量。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| O185.2-43/2 | C001128106 | 2008 |  理科阅览区
|
可借 | 总服务台 |
| O185.2-43/2 | C001128107 | 2008 | 理科阅览区
|
可借 | 总服务台 |
| O185.2-43/2 | C001128108 | 2008 | 理科阅览区
|
可借 | 总服务台 |
显示全部馆藏信息