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题名/责任者:

SOI CMOS技术及其应用/黄如 ... [等] 著

出版发行项:

北京:科学出版社,2005

ISBN及定价:

7-03-015968-3/CNY48.00

载体形态项:

383页:图;24cm

个人责任者:

黄如 著

个人责任者:

张国艳 著

个人责任者:

李映雪 著

个人责任者:

张兴 著

学科主题:

绝缘衬底上外延硅，MOS集成电路

中图法分类号:

TN432

题名责任附注:

本书其他著者张国艳，李映雪，张兴

书目附注:

有书目 (第377-383页)

提要文摘附注:

本书系统全面地介绍了ＳＯＩ技术及其应用。全书共分８章：第１章为前言；第２章讨论了ＳＯＩ材料制备及其表征技术；第３章系统讨论了ＳＯＩ器件的特征；第４章讨论了深亚微米ＳＯＩ器件的模型；第５章讨论了ＳＯＩ器件与电路的工艺和设计技术；第６章讨论了ＳＯＩ器件和电路的抗辐射加固技术；第７章介绍了一些新兴ＳＯＩ器件；最后一章介绍了ＳＯＩ技术在ｕｐ、数模混合射频集成电路、存储器、ＭＥＭＳ以及高温高压环境下的典型应用。

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